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商品描述

 STP-XA3203C DN320CF PT660Z080


Edwards STPA803C 涡轮分子泵是为半导体应用而设计的。Edwards 的先进转子技术可实现一流的性能和最大的制程灵活性。STPA803C 已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了认可。


应用

金属(铝)、钨和电介质(氧化物)以及多晶硅等离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)

电子回旋共振 (ECR) 刻蚀

薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD

溅射

离子注入源,射束线泵送端点站

MBE

扩散

光致抗蚀剂脱模

晶体/晶膜生长

晶片检查

负载锁真空腔

科学仪器:表面分析、质谱分析、电子显微镜

高能物理:射束线、加速器

放射线应用:融合系统、回旋

特性和优点

先进的转子技术  

更高的气体吞吐量

最大的制程灵活性

无油

低振动

高度可靠

免维护

可用于严苛制程

使用寿命延长

先进的控制器设计  

自动调整

自行诊断功能

直流电机驱动

无电池运行

紧凑型设计  

占地面积小

半机架控制器

5 轴磁悬浮系统

无污染

少维护

任意方向操作

技术数据

性能

尺寸

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