Edwards 的高性能 STPH301C 涡轮分子泵是为最严苛的半导体应用而设计的。这种泵经过实践检验的可靠性和一流的性能可以实现最大的制程灵活性。STPH301C 已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了认可。
应用
金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源，射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理：射束线、加速器
放射线应用：融合系统、回旋
特性和优点
先进的转子技术
更高的气体吞吐量
最大的制程灵活性
无油
低振动
高度可靠
免维护
可用于严苛制程
使用寿命延长
先进的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
5 轴磁悬浮系统
无污染
少维护
任意方向操作
技术数据
性能
尺寸
