Edwards STP603 是新型的涡轮分子泵，可用于最先进的半导体应用。Edwards 的转子技术可实现一流的性能，最大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了认可。
应用
金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源，射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理：射束线、加速器
放射线应用：融合系统、回旋
特性和优点
先进的转子技术
最大的制程灵活性
无油
低振动
高度可靠
免维护
先进的控制器设计
自动调整
自行诊断功能
直流电机驱动
无电池运行
紧凑型设计
占地面积小
半机架控制器
技术数据
性能
尺寸
