iH1000 干式泵 200/208V,50/60 Hz,3 相 A59030945
Edwards 高级半导体真空泵已经过现场应用证明,可以按照最高工作标准运行。通过延长使用寿命、提高运行时间并提高生产率,同时最大程度地减小占地面积、降低运行成本,实现了高的可靠性和性能。
iH 系列为难以执行的制程(如存在微粒、易冷凝和腐蚀性副产品的 PECVD 和 LPCVD 制程)提供了高可靠性。
应用
应用
负载锁
输送
计量
平版印刷
PVD 制程
PVD 预清洁
RTA
剥离/灰化
刻蚀
植入源
HDP CVD
RTP
SACVD
MCVD
PECVD
LPCVD
ALD
特性和优点
优化了设施消耗。
无需预防性维护。
悬臂轴和特殊的异型转子便于颗粒的处理。
在节省电机功率的同时最大程度提高了工作繁重的 CVD 应用条件下的稳定性。
耐腐蚀的制造材料允许泵送腐蚀性气体。
较高的工作温度为避免气体冷凝提供了充分的安全保证。
整体式轴杆无需使用电机联结器,而第五级泵消除了使用消音器的需要并消除了颗粒堆积,从而降低了总体占地面积。
技术数据
性能
尺寸